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2022年非诚勿扰官网报名方式,相亲节目报名入口 半导体突发!中国出手:停止采购!

  大家好,来(lái)看(kàn)一则突(tū)发消息(xī)。

  美光公司在华销售的(de)产品(pǐn)未通过网络安全审查(chá)

  据(jù)网信办消息,日前,网络安全审查办(bàn)公室依法(fǎ)对美光公司在华(huá)销售产品进行了网络安全审(shěn)查。

  审查发现,美光公(gōng)司产(chǎn)品存在较严重网络安全问题(tí)隐患,对我国关键(jiàn)信息基础设施供应链造(zào)成(chéng)重大安全(quán)风险,影响我(wǒ)国国家安(ān)全。为(wèi)此,网络安全审查办公室依法作出不(bù)予(yǔ)通过网络安全审查的结论。按照《网络安全法》等法(fǎ)律法规,我(wǒ)国内关键信(xìn)息(xī)基础设施的运营(yíng)者应停(tíng)止采购美光公司(sī)产(chǎn)品。

  此(cǐ)次对(duì)美光公司产品(pǐn)进行网(wǎng)络安全审查,目(mù)的是防范产品网络安全问题危(wēi)害国家关(guān)键信息基础设施安(ān)全,是维护国(guó)家安(ān)全的必要措施。中国坚(jiān)定推进高水(shuǐ)平对外(wài)开放,只要遵守(shǒu)中国法(fǎ)律(lǜ)法规要求,欢迎各国企业、各类平台产品服务(wù)进入中国市(shì)场。

  半导体突发!中(zhōng)国出手:停止采购!

  3月31日,中国(guó)网信网发(fā)文称,为保(bǎo)障关(guān)键信(xìn)息基础设施(shī)供应链安全,防范产品问题(tí)隐患造成(chéng)网络(luò)安(ān)全风险,维护国家安全,依(yī)据《中(zhōng)华人(rén)民共和国国家安全法》《中华人民共和国网络安(ān)全法》,网(wǎng)络安全审查办公室按照《网络(luò)安全审查办(bàn)法(fǎ)》,对美光公司(Micron)在华销售的(de)产品(pǐn)实施网络(luò)安全(quán)审查。

  半导(dǎo)体(tǐ)突发!中国出手:停止(zhǐ)采购!

  美光是美国(guó)的存储芯片行业龙头,也是全球存储芯片巨头之一,2022年收(shōu)入来(lái)自中国市场(chǎng)收入从此前高峰57%降(jiàng)至2022年(nián)约11%。根据(jù)市场咨询机(jī)构(gòu) Omdia(IHS Markit)统(tǒng)计,2021 年三星电子、 铠侠、西(xī)部数据(jù)、SK 海力士、美光、Solidigm 在全球 NAND Flash (闪存)市场份额约为 96.76%,三星电子、 SK 海力(lì)士、美光在全球 DRAM (内(nèi)存(cún))市场份(fèn)额约为 94.35%。

  A股上市公司中,江波(bō)龙、佰维存储等公司(sī)披露(lù)过(guò)美光等国(guó)际存储厂商(shāng)为公司供(gōng)应(yīng)商。

  美光在江波龙采购占比已经显著下降,至少已经不是主要大供应商。

  公告显示, 2021年(nián)美(měi)光位列江波龙第一大存储晶圆供应商,采购约31亿元,占比33.52%;2022年(nián),江波龙第一大、第二(èr)大和(hé)第三大(dà)供应商采购金额占比分(fēn)别是26.28%、22.85%和(hé)5.76%。

  2022年非诚勿扰官网报名方式,相亲节目报名入口目(mù)前江波(bō)龙已经在(zài)存储产业链上下游(yóu)建立国(guó)内外广泛合作。2022年年报(bào)显(xiǎn)示,江波(bō)龙与三星、美光、西部(bù)数据等主要存(cún)储晶圆原厂签署(shǔ)了长期合约(yuē),确(què)保存(cún2022年非诚勿扰官网报名方式,相亲节目报名入口)储晶圆(yuán)供应的(de)稳定性,巩固公(gōng)司在下游市(shì)场的供应优势(shì),公司也与国内国产存储晶圆原厂武汉长江存储、合肥长(zhǎng)鑫保持良好的合(hé)作。

  有券商此前(qián)就分析,如(rú)果美光在中国区销(xiāo)售受到限(xiàn)制,或将(jiāng)导致下游客户转而(ér)采购国(guó)外三星、 SK海力士,国(guó)内长江存(cún)储、长鑫存储等竞对产品

  分析称(chēng),长(zhǎng)存、长鑫的上(shàng)游(yóu)设(shè)备厂或从(cóng)中(zhōng)受益。存储(chǔ)器的生产已经演(yǎn)进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺(yì)。另(lìng)外NAND Flash现在已经(jīng)进入3D NAND时(shí)代,2 维到3维的结构(gòu)转变使(shǐ)刻蚀(shí)和(hé)薄膜(mó)成为最关键、最大量的加工设备(bèi)。3D NAND每层(céng)均需(xū)要经(jīng)过(guò)薄(báo)膜沉(chén)积(jī)工(gōng)艺步骤,同时刻蚀(shí)目前(qián)前沿要刻到 60:1的深孔(kǒng),未来(lái)可能会更(gèng)深的孔或者沟槽,催生(shēng)更多设备需求(qiú)。据东京电子披露,薄膜沉(chén)积设备及刻蚀占3D NAND产线资(zī)本开支合计为75%。自长江(jiāng)存(cún)储(chǔ)被加入美国限制名单,设备(bèi)国产化进程加速,看好(hǎo)拓荆科技(薄膜沉积)等相关公司份(fèn)额提升,以及存储(chǔ)业务占比较高的华海(hǎi)清(qīng)科(CMP)、盛美(měi)上(shàng)海(hǎi)(清(qīng)洗)等(děng)收入增长。

 

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