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　　美光公司在华销售(shòu)的产(chǎn)品未通过网络安全审(shěn)查

　　据网信办消(xiāo)息(xī)，日前(qián)，网络安全审查办公(gōng)室依法对美光公司在(zài)华销售产品进行了网络安(ān)全审查。

　　审查(chá)发现，美光公司(sī)产(chǎn)品存(cún)在(zài)较(jiào)严重(zhòng)网络(luò)安全问题隐患，对(duì)我国关键(jiàn)信息基础设施(shī)供应(yīng)链(liàn)造成(chéng)重大安全风险，影(yǐng)响我国国家安全。为此，网络安全审查办公室依法作(zuò)出不予通过(guò)网(wǎng)络安全审查的结论。按照《网络安全法》等(děng)法律法规，我国内关键信息(xī)基础设施的运营(yíng)者应停止采购美光公司产品(pǐn)。

　　此次(cì)对(duì)美光公司产小荷才露尖尖角是什么意思小荷指的是什么，小荷才露尖尖角是什么意思污品进行(xíng)网络安全审(shěn)查，目的是防范产品网络安(ān)全问题危害国家关键信息基础设(shè)施安(ān)全，是维护国家安全(quán)的必(bì)要措施。中国坚(jiān)定推进高(gāo)水平对外开放(fàng)，只(zhǐ)要遵守中国法律法(fǎ)规要求，欢迎各国企业、各类平台产品服务进(jìn)入中(zhōng)国市场(chǎng)。

　　3月31日，中国(guó)网(wǎng)信网发文称，为(wèi)保(bǎo)障关(guān)键信息基础设施供应(yīng)链安全，防范产品问题隐患(huàn)造成(chéng)网络(luò)安全风险，维护(hù)国家安(ān)全(quán)，依据《中华人(rén)民(mín)共和国国(guó)家安全法(fǎ)》《中华人民(mín)共和国网络安全(quán)法》，网络安全审(shěn)查办(bàn)公室按照《网(wǎng)络安(ān)全审查办法》，对(duì)美光公(gōng)司（Micron）在华(huá)销(xiāo)售的产品实施网络安(ān)全(quán)审查(chá)。

　　美光是美(měi)国的(de)存储芯(xīn)片行业龙头(tóu)，也是(shì)全球存储(chǔ)芯片巨头之一，2022年(nián)收入来自中国市场(chǎng)收入从此前高峰57％降(jiàng)至2022年约11％。根(gēn)据(jù)市场(chǎng)咨询机构(gòu) Omdia（IHS Markit）统(tǒng)计，2021 年三星电(diàn)子、 铠侠、西部数(shù)据、SK 海力士、美光、Solidigm 在全(quán)球 NAND Flash （闪存(cún)）市场份额约为 96.76％，三(sān)星(xīng)电子、 SK 海(hǎi)力士、美(měi)光在全球 DRAM （内存(cún)）市场份额约为 94.35％。

　　A股上市公司中(zhōng)，江(jiāng)波龙、佰维存储等公(gōng)司(sī)披露过美光等国际存储(chǔ)厂商为公司供(gōng)应商。

　　美光在江波龙采购占(zhàn)比已经(jīng)显(xiǎn)著下降，至少已经不是(shì)主要大供应(yīng)商。

　　公告显(xiǎn)示(shì)， 2021年美光(guāng)位列江波龙第一大存储晶圆供应商，采购(gòu)约31亿元，占比33.52％；2022年，江波(bō)龙第一大(dà)、第二大和第(dì)三大供应商(shāng)采(cǎi)购金额占比分(fēn)别是26.28％、22.85％和5.76％。

　小荷才露尖尖角是什么意思小荷指的是什么，小荷才露尖尖角是什么意思污　目前江(jiāng)波龙已(yǐ)经(jīng)在存储(chǔ)产业链(liàn)上下游(yóu)建立国(guó)内外广泛合作。2022年年(nián)报显示，江(jiāng)波龙与(yǔ)三星、美光、西部数据等主要存储晶(jīng)圆原厂签署了长期合约，确(què)保存储晶(jīng)圆供(gōng)应的稳(wěn)定性，巩(gǒng)固公司在下(xià)游(yóu)市场的供应优势，公司也与国内国产存储晶圆原厂武汉长江(jiāng)存储、合肥长鑫保(bǎo)持良好的合作(zuò)。

　　有(yǒu)券(quàn)商此前就分析，如果美光在中国区销售(shòu)受到限制，或将导致下游客户转而(ér)采购国外三星、 SK海(hǎi)力士，国内长江(jiāng)存储(chǔ)、长(zhǎng)鑫存储等竞(jìng)对产品

　　分析称，长存、长鑫的上(shàng)游设备厂(chǎng)或从中受益。存储器的生产已经演进到1Xnm、1Ynm甚至(zhì)1Zn小荷才露尖尖角是什么意思小荷指的是什么，小荷才露尖尖角是什么意思污m的工艺(yì)。另外NAND Flash现在已经进入3D NAND时(shí)代，2 维(wéi)到3维的结构(gòu)转变使刻蚀和薄膜成(chéng)为最关键、最大量的加工(gōng)设(shè)备。3D NAND每层(céng)均需要经过(guò)薄膜沉积(jī)工艺(yì)步(bù)骤，同时刻蚀目前前沿(yán)要刻到 60：1的深孔，未来可能会更深(shēn)的孔或(huò)者沟(gōu)槽(cáo)，催生(shēng)更多设备需求。据(jù)东(dōng)京电子(zi)披露，薄膜沉积设备及刻蚀(shí)占3D NAND产线资本(běn)开支合计为75％。自长(zhǎng)江存(cún)储被(bèi)加入(rù)美国限制名单，设备国产化进程加(jiā)速(sù)，看好拓荆科技（薄(báo)膜沉积(jī)）等相关公司份额提升，以及存储业务占比较高(gāo)的华海清科（CMP）、盛(shèng)美上海（清洗）等收入(rù)增长。

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